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    真空氣氛爐

    真空氣氛爐

    簡要描述: 真空電阻爐用途:適用于電子陶瓷與高溫結構陶瓷的燒結、玻璃的精密退火與微晶化、晶體的精密退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結、金屬零件淬火及一切需快速升溫工藝要求的熱處理,是科研單位、高等院校、工礦企業理想的實驗和生產設備

    • 生產地址:上海
    • 廠商性質:生產廠家
    • 更新時間:2024-05-22
    • 訪  問  量:1715
    詳細介紹

    GR.VRF系列真空氣氛爐詳細介紹


    1.爐體采用雙層爐殼結構,雙層爐殼之間是循環水系統,可以快速升降溫,爐殼表面溫度低。

    2.爐門采用高溫硅橡膠密封,爐門配備水冷系統。爐體上有進氣口、出氣口、抽真空口。

    3.爐膛材料采用的進口氧化鋁多晶纖維真空吸附制成,節能50%,二面加熱溫場均勻。加熱元件采用硅鉬棒。

    4.電爐溫度控制系統采用人工智能調節技術,具有PID調節、模糊控制、自整定能力并可編制各種升溫程序等功能,該控制系統溫度顯示精度為1℃,溫場穩定度±5℃,升溫速率1~20℃可任意設置。

    5.可以通氬氣、氮氣等其他氣體,并能預抽真空,真空度可以達到15Pa,爐體采用厚鋼板加工而成,安全可靠,符合國家標準。

    真空氣氛爐選配配置:

    1、玻璃轉子流量計和進出口管道

    2、真空泵

    3、安裝調試,培訓

    4、剛玉坩堝

    5、備品備件

     

    GR.VRF系列真空氣氛爐型號及規格

     

    型號

    爐膛尺寸(mm)

    (DxH)

    功率

    (KW)

    zui高溫度

    (℃)

    額度溫度

    (℃)

    加熱元件

    電壓

    (V)

    GR.VRF4.5/16

    200x150x150

    7

    1600

    1500

    硅鉬棒

    380

    GR.VRF12/16

    300x200x200

    11

    1600

    1500

    硅鉬棒

    380

    GR.VRF36/16

    400x300x300

    16

    1600

    1500

    硅鉬棒

    380

    GR.VRF80/16

    500x400x400

    24

    1600

    1500

    硅鉬棒

    380

     

    另:我公司可以根據客戶具體要求進行非標設計與制造。

     

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